| 摘要 |
【課題】 電極パターンのパターン間隔を効率よく縮小し、ＴＦＴ−ＬＣＤアレイ基板の透過率を高め、かつ製造コストを低下させるＴＦＴ−ＬＣＤアレイ基板の製造方法、液晶パネル、液晶表示装置を提供する。【解決手段】 ガラス基板にゲートと、ゲート絶縁層と、アモルファスシリコン層及びオーミック接触層とによって構成する活性層と、該活性層上のソースとドレインと、不動態化層と、該ドレイン上方に位置する不動態化層バイアホールとを形成するａ）のステップと、該ａ）のステップを完成させたガラス基板上に導電薄膜を蒸着し、該導電薄膜上にフォトレジストを塗布して露光と現像を行い、ＴＦＴエリアの不動態化層バイアホールの位置を除くフォトレジストを除去し、かつ画素エリアのギャップを形成する位置の一部フォトレジストを除去してＴＦＴエリアの不動態化層バイアホールの位置を除く該導電薄膜を露出させるｂ）のステップと、４回のドライエッチングによって、該ｂ）のステップにおける画素領域の該ギャップを形成する位置の残余のフォトレジストを除去して、画素領域の該ギャップを形成する位置の該導電薄膜を露出させる ｃ）のステップと、３回のウエットエッチングで該ステップb）と該ステップｃ）で露出させた導電薄膜を除去するｄ）のステップと、除去していないフォトレジストを剥離して導電電極を形成し、かつ該導電電極と該不動態化層バイアホールとを接続するｅ）のステップと、を含む。【選択図】 図３ |
