发明名称 Substrate processing device
摘要 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 고정 드럼; 상기 고정 드럼의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판을 이송시키는 기판 이송 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부; 상기 제 1 개구부에 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부; 상기 제 2 개구부에 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부; 상기 제 3 개구부에 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급 장치; 및 상기 기판 이송 장치에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판에 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 도달될 수 있도록 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀이 형성되고, 상기 유연성 기판과 상기 고정 드럼 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼;을 포함할 수 있다.
申请公布号 KR101677157(B1) 申请公布日期 2016.11.17
申请号 KR20150108798 申请日期 2015.07.31
申请人 ISAC RESEARCH, INC. 发明人 PARK, HYUNG SANG
分类号 H01L21/314;H01L21/205;H01L21/677;H01L51/00 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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