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经营范围
发明名称
拥有独立偏压源极的侧向双扩散金属氧化半导体
摘要
一种高功率金属氧化半导体元件包含一P型基极区域,此P型基极区域具有N+型源极且在施以电负载时其偏压与P型基材不同。在一实施例中,使用NPN配置的LDMOS元件,而且其元件源极与基层接点耦接以防止产生NPN寄生元件。P型基极区域形成在N型井内,此N型井将基极区域与P形基材以及环绕之P型井隔开。高掺杂的N+型埋藏层隔开N型井与P型基材,以防止垂直电击穿。
申请公布号
TW200719476
申请公布日期
2007.05.16
申请号
TW095124699
申请日期
2006.07.06
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
伍佑国;陈富信;蒋柏煜;姜安民
分类号
H01L29/76(2006.01)
主分类号
H01L29/76(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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