发明名称 OPTICAL SYSTEM, ESPECIALLY A PROJECTION LIGHT FACILITY FOR MICROLITHOGRAPHY
摘要 <p>Ein optisches System, insbesondere eine Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie, insbesondere mit schlitzförmigem Bildfeld oder nicht rotationssymmetrischer Beleuchtung, weist ein optisches Element (1), insbesondere eine Linse oder einen Spiegel, das in einer Fassung (2) angeordnet ist, und Aktuatoren (3) auf, die an dem optischen Element (1) wenigstens annäherend senkrecht zur optischen Achse angreifen. Die Aktuatoren (3) bewirken nicht rotationssymmetrische und von der Radialen abweichende Kräfte und/oder Momente an dem optischen Element (1) zur Erzeugung von im wesentlichen ohne Dickenänderungen sich ergebende Verbiegungen. Bildfehler, die durch die asymetrische Erwärmung der Optik entstehen, werden durch die verbiegung des optischen Elements kompensiert.</p>
申请公布号 WO1999067683(A2) 申请公布日期 1999.12.29
申请号 EP1999004246 申请日期 1999.06.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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