发明名称 头孢烯化合物的制备方法
摘要 式(3)表示的3-链烯基头孢烯化合物或3-去甲头孢烯化合物的制备方法,其特征在于,在溶剂中使式(2)表示的卤代烯烃、镍催化剂、标准氧化还原电位为-0.3(V/SCE)以下的金属以及具有比上述金属高的标准氧化还原电位的金属化合物作用于式(1)表示的3-头孢烯化合物。(式(1)中,R<SUP>1</SUP>表示氢原子等,R<SUP>2</SUP>表示氢原子等。R<SUP>3</SUP>表示氢原子或羧酸保护基。X表示卤素原子等。)R<SUP>4</SUP>-Y(2)(式(2)中,R<SUP>4</SUP>表示有时具有取代基的1-链烯基。Y表示卤素原子。)(式(3)中,R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>和R<SUP>3</SUP>与上述相同,R<SUP>5</SUP>表示氢原子或有时具有取代基的1-链烯基)。
申请公布号 CN1371380A 申请公布日期 2002.09.25
申请号 CN00812074.9 申请日期 2000.08.30
申请人 大塚化学株式会社 发明人 田中秀雄;龟山丰
分类号 C07D501/04 主分类号 C07D501/04
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈昕
主权项 1、式(3)表示的3-链烯基头孢烯化合物或3-去甲头孢烯化合物的制备方法,其特征在于,在溶剂中使式(2)表示的卤代烯烃、镍催化剂、标准氧化还原电位为-0.3(V/SCE)以下的金属以及具有比上述金属高的标准氧化还原电位的金属化合物作用于式(1)表示的3-头孢烯化合物;<img file="A0081207400021.GIF" wi="610" he="273" />式中,R<sup>1</sup>表示氢原子、卤素原子、氨基或被保护的氨基,R<sup>2</sup>表示氢原子、卤素原子、低级烷氧基、低级酰基、羟基或被保护的羟基、有时具有羟基或被保护的羟基作为取代基的低级烷基,R<sup>3</sup>表示氢原子或羧酸保护基,X表示卤素原子、有时具有取代基的低级烷基磺酰氧基或有时具有取代基的芳基磺酰氧基;        R<sup>4</sup>-Y                               (2)式中,R<sup>4</sup>表示有时具有取代基的1-链烯基,Y表示卤素原子;<img file="A0081207400022.GIF" wi="595" he="275" />式中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>与上述相同,R<sup>5</sup>表示氢原子或有时具有取代基的1-链烯基。
地址 日本大阪府