| 发明名称 | 去除热障涂层中陶瓷层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种去除热障涂层中陶瓷层的方法，采用将热障涂层试件置入580℃～800℃熔融状态氢氧化钾(KOH)+氢氧化钠(NaOH)溶液中浸泡3～20min来去除陶瓷层。该方法去除陶瓷层完全，对热障涂层试件无损害，对所需实验设备要求较低，去除时间短等特点。 | ||
| 申请公布号 | CN1635180A | 申请公布日期 | 2005.07.06 |
| 申请号 | CN200410103489.1 | 申请日期 | 2004.12.30 |
| 申请人 | 北京航空航天大学 | 发明人 | 宫声凯;张春霞;徐惠彬 |
| 分类号 | C23G1/28 | 主分类号 | C23G1/28 |
| 代理机构 | 北京永创新实专利事务所 | 代理人 | 官汉增 |
| 主权项 | 1、一种去除热障涂层中陶瓷层的方法，其特征在于：包括如下步骤(A)按配比称取氢氧化钾(KOH)、氢氧化钠(NaOH)粉混合均匀置入镍坩埚中；(B)加热盐浴炉至500℃～800℃；(C)将上述(A)中装有氢氧化钾(KOH)+氢氧化钠(NaOH)混合料的镍坩埚放入盐浴炉中，加热混合料至580℃～800℃；(D)将热障涂层试件置入上述(C)处理的镍坩埚中，控制反应时间3～20min；(E)取出经上述(D)处理后的热障涂层试件并置入常温冷水中冲洗3～5min；(F)将经上述(E)处理后的热障涂层试件进行表面湿吹砂处理，去除热障涂层中的部分粘结层。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区学院路37号 | ||