CVD APPARATUS FOR IMPROVED FILM THICKNESS NON-UNIFORMITY AND PARTICLE PERFORMANCE

摘要

본 발명의 실시예들은 화학기상증착(CVD)에 의한 것과 같이 기판 상에 층을 증착하기 위한 개선된 장치를 제공한다. 본 명세서에 개시된 본 발명에 따른 장치는 주어진 프로세스 챔버 내에서 박막 두께 불균일성이 감소된 박막의 증착, 개선된 파티클 성능(예를 들어, 프로세스 챔버에서 형성된 박막 상에서 파티클의 감소), 복수의 프로세스 챔버 간의 챔버 대 챔버 성능 매칭, 및 개선된 프로세스 챔버 내구성 중 하나 또는 그 이상을 유리하게 가능하게 한다.