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Verfahren zum Herstellen einer organischen lichtemittierenden Dioden-Anzeigevorrichtung, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: Ausbilden eines Dünnschichttransistors in einem Anzeigebereich eines Substrats (200), wobei das Substrat den Anzeigebereich und einen Nichtanzeigebereich aufweist; Ausbilden einer Metallstruktur (210a) auf dem Substrat (200) im Anzeigebereich; Ausbilden einer ersten Elektrode (210) auf dem Substrat (200), die mit dem Dünnschichttransistor verbunden ist; Ausbilden eines Walls (220) auf dem Substrat (200), um einen Bereich der ersten Elektrode (210) und einen Bereich der Metallstruktur (210a) freizulegen; Ausbilden eines Photolackmusters (300), um die Metallstruktur (210a) zu bedecken, wobei eine obere Oberfläche des Photolackmusters (300) höher als eine obere Oberfläche des Walls (220) ist; Ausbilden einer gemeinsamen Löcherschicht (230a), einer organischen lichtemittierenden Schicht (240) und einer gemeinsamen Elektronenschicht (230b) nacheinander über der gesamten Oberfläche des Substrats (200), das mit der ersten Elektrode (200) und dem Photolackmuster (300) versehen ist; Abtragen des Photolackmusters (300) einschließlich der gemeinsamen Löcherschicht (230a), einer organischen lichtemittierenden Schicht (240) und einer gemeinsamen Elektronenschicht (230b) auf der Oberfläche des Photolackmusters (300); und Ausbilden einer zweiten Elektrode (260) auf der gemeinsamen Elektronenschicht (230b), die mit der Metallstruktur (210a) verbunden ist. |
