| 发明名称 | 激光辐照装置和激光辐照方法 | ||
| 摘要 | 本发明的一个目的在于提供对半导体膜的整个表面进行均匀激光处理的激光辐照装置和激光辐照方法。自第一激光振荡器发出的第一激光束通过狭缝和聚光透镜，接着入射被辐照表面。同时，传送自第二激光振荡器发出的第二激光束使其与被辐照表面上的第一激光束相叠。接着，相对于被辐照表面扫描激光束使被辐照表面均匀退火。 | ||
| 申请公布号 | CN101027757A | 申请公布日期 | 2007.08.29 |
| 申请号 | CN200580032554.9 | 申请日期 | 2005.07.28 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 田中幸一郎;山本良明;小俣贵嗣 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L21/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/268(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴娟;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种激光辐照装置，所述装置包括：第一激光振荡器；第二激光振荡器；用于屏蔽自第一激光振荡器发出的第一激光束的端部的狭缝；聚光透镜；用于传送自第二激光振荡器发出的第二激光束的装置，从而使其覆盖被辐照表面上第一激光束辐照的范围；用于在相对于第一激光束和第二激光束的第一方向上移动被辐照表面的装置；和用于在相对于第一激光束和第二激光束的第二方向上移动被辐照表面的装置。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||