| 发明名称 | 增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法，涉及显示领域，能够解决了现有液晶显示装置中有机膜粘附力差、盒厚不均匀的问题。本发明提供的增加薄膜粘附力的薄膜制备方法，包括：在衬底材料上形成下宽上窄的沟槽或孔洞，或者直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料；在形成有所述沟槽或孔洞的衬底材料上沉积薄膜材料，形成薄膜，所述薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。 | ||
| 申请公布号 | CN105759477A | 申请公布日期 | 2016.07.13 |
| 申请号 | CN201610172884.8 | 申请日期 | 2016.03.24 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 金姬;孟庆勇 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法，其特征在于，包括：在衬底材料上形成下宽上窄的沟槽或孔洞，或者直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料；在形成有所述沟槽或孔洞的衬底材料上沉积薄膜材料，形成薄膜，所述薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||