发明名称 制退机构
摘要 一种制退机构,藉由在制退机构主体两侧上之沟槽内增添弹性结构,无论是弹性体或弹性物,以使制退机构透过沟槽扣合欲制退务时,除能有效制退外,亦可增添制退机构与欲制退物间之密实空间,且此密实空间将具有弹性。
申请公布号 TW200629500 申请公布日期 2006.08.16
申请号 TW094103782 申请日期 2005.02.04
申请人 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司 CHIPMOS TECHNOLOGIES(BERMUDA)., LTD. 英国 发明人 龚新登;陈广潮
分类号 H01L23/32 主分类号 H01L23/32
代理机构 代理人 何文渊
主权项
地址 新竹县宝山乡新竹科学工业园区研发一路1号