メトロロジ方法および装置、リソグラフィシステムならびにデバイス製造方法

摘要

【課題】リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法および関連する検査装置を提供する。【解決手段】本方法は、複数の異なる照明条件を使用して基板上の少なくとも２つの意図的なオーバーレイバイアスを有するターゲット構造を測定することを含み、それにより、各ターゲット構造に対して、（ｉ）意図的なオーバーレイバイアスと、（ｉｉ）ターゲット構造の形成中のオーバーレイエラーと、（ｉｉｉ）任意のフィーチャ非対称性と、による寄与を含む全体的な非対称性を表す非対称性測定を取得する。回折分析は、別のターゲット構造の非対称性測定に対する１つのターゲット構造の非対称性測定の平面図に、必ずしも平面図の原点を通ってフィットされない線形回帰モデルをフィットすることにより非線形測定データ上で実施される。オーバーレイエラーは、その後線形回帰モデルにより記述された勾配から決定され得る。【選択図】図７