发明名称 |
SYSTEMS AND METHODS FOR DEFLECTING PLASMA-GENERATED IONS TO PREVENT THE IONS FROM REACHING AN INTERNAL COMPONENT OF AN EUV LIGHT SOURCE |
摘要 |
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申请公布号 |
EP1899115(A2) |
申请公布日期 |
2008.03.19 |
申请号 |
EP20060760378 |
申请日期 |
2006.05.25 |
申请人 |
CYMER, INC. |
发明人 |
RETTIG, CURTIS L.;HOFFMAN, JERZY R.;VARGAS, ERNESTO L. |
分类号 |
G21K1/00;G02B5/00;G03F7/20;G21C11/00;H01J1/50 |
主分类号 |
G21K1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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