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发明名称
Verfahren zum Erzeugen von Kontaktlöchern in einer Halbleiteranordnung
摘要
申请公布号
DE19707886(A1)
申请公布日期
1998.09.10
申请号
DE19971007886
申请日期
1997.02.27
申请人
MICRONAS SEMICONDUCTOR HOLDING AG, ZUERICH, CH
发明人
LIEBISCH, ARMIN, 79410 BADENWEILER, DE
分类号
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/308
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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