发明名称 |
无机氧化物膜的处理方法、电子设备用基板及其制造方法、液晶面板及电子机器 |
摘要 |
本发明提供能够使醇不仅与无机氧化物膜的表面,而且与细孔的内面也可靠地化学结合的无机氧化物膜的处理方法、例如液晶分子等的取向性不易随时间延长而降低的电子设备用基板、能够制造此种电子设备用基板的电子设备用基板的制造方法、可靠性高的液晶面板及电子机器。本发明的电子设备用基板的制造方法具有:通过在基板一面侧利用斜向蒸镀法形成具有多个细孔的无机氧化物膜的工序、将形成了无机氧化物膜的基板浸渍于至少含有第1醇和分子量比该第1醇小的第2醇的处理液中的工序、通过将设置有处理液的空间减压而使处理液浸透至所述细孔内的工序、使处理液中的醇与无机氧化物膜的表面及细孔的内面化学结合而获得取向膜的工序。 |
申请公布号 |
CN100403133C |
申请公布日期 |
2008.07.16 |
申请号 |
CN200610074394.0 |
申请日期 |
2006.04.14 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
寺尾幸一;筱原祐治 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01);G02F1/1333(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种无机氧化物膜的处理方法,其特征是,具有:将通过斜向蒸镀法形成并具有多个细孔的无机氧化物膜浸渍在至少含有第1醇和分子量比该第1醇小的第2醇的处理液中的工序、通过对设置有该处理液的空间减压而使所述处理液浸透至所述无机氧化物膜的细孔内的工序、使所述处理液中的醇与所述无机氧化物膜的表面及细孔的内面化学结合的工序。 |
地址 |
日本东京 |