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发明名称
静電チャック用障壁層
摘要
イオンを高温で注入する静電チャックを開示する。静電チャックは絶縁ベースを含み、その上に導電性電極が配置される。誘電体最上層が電極上に配置される。障壁層は、誘電体最上層とワークとの間にくるように、誘電体最上層上に配置される。この障壁層は誘電体最上層からチャック上にクランプされたワークへの粒子の移動を阻止する働きをする。いくつかの実施形態では、摩耗を防止するために、保護層が障壁層の最上部に付加される。
申请公布号
JP2016529735(A)
申请公布日期
2016.09.23
申请号
JP20160538951
申请日期
2014.08.12
申请人
ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド
发明人
アンドリュー エム ワイト;ジェイムズ キャロル
分类号
H01L21/683;H02N13/00
主分类号
H01L21/683
代理机构
代理人
主权项
地址
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