SYSTEM FOR NON RADIAL TEMPERATURE CONTROL FOR ROTATING SUBSTRATES

摘要

본원 발명의 실시예들은 열처리 동안에 불균일을 감소시키기 위한 장치 및 방법을 제공한다. 본원 발명의 일 실시예는 기판 프로세싱용 장치를 제공하고, 상기 기판 프로세싱용 장치는 처리 용적을 형성하는 챔버 몸체, 상기 처리 용적 내에 배치되고 기판을 회전시키도록 구성된 기판 지지부, 다수의 위치에서 기판의 온도를 측정하도록 구성된 센서 조립체, 그리고 처리 용적을 향해서 펄스형 에너지를 제공하도록 구성된 하나 또는 둘 이상의 펄스 가열 요소를 포함한다.