| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 컵, 상기 처리 공간 내에 배치되고 상기 기판을 지지하며 중앙에 중공이 형성된 바디 및 상기 바디를 회전시키는 구동기를 포함하는 지지유닛, 상기 바디의 상면에 세정액을 공급하는 세정액 분사부재, 상기 바디의 상기 중공에 삽입되는 지지축과 상기 지지축의 상단에 결합되며 상기 바디의 상면으로부터 돌출되게 제공되는 스커트를 가지며, 상기 기판의 저면에 세정액을 분사하는 백노즐 유닛, 및 상기 세정액 분사부재 및 상기 지지유닛을 제어하는 제어기를 포함하고, 상기 제어기는 상기 지지유닛을 세정하는 공정 진행시 상기 세정액이 상기 바디의 상면 중 내측 가장 자리에 분사되도록 상기 세정액 분사부재를 제어한다. |
