摘要 |
bezeichnung: verfahren zum entschichten von kohlenstoffschichten, insbesondere von ta-c schichten von substratoberflächen von werkzeugen und bauteilen. das zu entschichtende substrat wird demgemäß auf einen substrathalter in einer vakuumkammer angeordnet, die vakuumkammer wird mit mindestens einem den abtransport von kohlenstoff in gasform unterstützendem reaktivgas beschickt und eine niederspannungsplasmaentladung wird in der vakuumkammer zur anregung des reaktivgases und somit zur unterstützung der erforderlichen chemischen reaktion bzw. reaktionen zum entschichten der beschichteten substrat erzeugt. dabei ist die niederspannungsplasmaentladung eine gleichstrom-niedervoltbogenentladung, die zu entschichtenden substratoberflächen im wesentlichen werden ausschließlich mit elektronen beschossen und als reaktivgas werden sauerstoff, stickstoff und wasserstoff verwendet. _____________________________ tradução do resumo resumo patente de invenção: "método para remover camadas de carbono duras". a invenção refere-se a um processo para a remoção de cama-das de carbono, particularmente de camadas de ta-c de superfícies de substratos de componentes e ferramentas. o substrato a ter a camada removida é disposto, consequentemente, sobre um suporte de substrato em uma câmara de vácuo, a câmara de vácuo é abastecida com pelo menos um gás reativo que auxilia a remoção de carbono em forma gasosa e uma descarga de plasma de baixa tensão é gerada na câmara de vácuo, para ativar o gás reativo e, com isso, auxiliar a reação ou reações químicas necessárias para remoção de camada do substrato revestido. nesse caso, a descarga de baixa tensão é uma descarga de arco de baixa voltagem de corrente contínua, as superfícies de substrato são substancialmente bombardeadas, exclusivamente com elétrons e como gás reativo são usados oxigênio, nitrogênio e hidrogênio. é inflamada, e a remoção de camada reativa é realizada em uma etapa ou em várias etapas, caracterizado pelo fato de que para remover pelo menos uma parte da camada de carbono do substrato, pelo menos na última etapa da remoção de camada reativa é usado um gás, que compreende gás de nitrogênio como gás reativo. |