发明名称 薄膜电容及其制造方法和混合电路基板及其装配方法
摘要 本发明的薄膜电容旨在实现高静电电容值,小型且薄型化。其构成是在对向设置的电极层1,2之间形成电介质层3,并在各电极层与电介质层之间夹有导电性粒子层4和5。
申请公布号 CN1137159A 申请公布日期 1996.12.04
申请号 CN96101979.4 申请日期 1996.03.14
申请人 欧姆龙株式会社 发明人 川井若浩
分类号 H01G4/33;H05K1/18;H05K1/16;H05K3/00 主分类号 H01G4/33
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 范本国
主权项 1.一种薄膜电容,其特征是:在对向电极层之间形成电介质层,且至少在一侧的电极层与电介质层之间夹有导电性粒子层。
地址 日本京都