| 摘要 |
본 발명은 균열의 발생을 억제할 수 있는 적층막의 형성 방법 및 그 형성 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 적층막의 형성 방법은, 반응실 내에 수용된 복수매의 피처리체에 실리콘 산화막을 형성하는 실리콘 산화막 형성 공정과, 상기 반응실 내에 실리콘 소스와 질화제와 산화제를 공급하여, 상기 복수매의 피처리체에 실리콘 산질화막을 형성하는 실리콘 산질화막 형성 공정을 포함하고, 상기 실리콘 산화막 형성 공정 및 상기 실리콘 산질화막 형성 공정을 반복해서, 상기 복수매의 피처리체에 상기 실리콘 산화막과 상기 실리콘 산질화막의 적층막을 형성하는 스텝을 포함한다. |
