发明名称 METHOD OF CLEANING PLASMA TREATING APPARATUS
摘要
申请公布号 JPH10144666(A) 申请公布日期 1998.05.29
申请号 JP19960320910 申请日期 1996.11.14
申请人 TOKYO ELECTRON LTD 发明人 AKAHORI TAKASHI;ISHIZUKA SHUICHI;NAKASE RISA;NAITO YOKO;TOZAWA MASANORI;HIRATA TADASHI
分类号 C23C16/44;H01L21/205;H01L21/304;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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