发明名称 |
METHOD OF CLEANING PLASMA TREATING APPARATUS |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH10144666(A) |
申请公布日期 |
1998.05.29 |
申请号 |
JP19960320910 |
申请日期 |
1996.11.14 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD |
发明人 |
AKAHORI TAKASHI;ISHIZUKA SHUICHI;NAKASE RISA;NAITO YOKO;TOZAWA MASANORI;HIRATA TADASHI |
分类号 |
C23C16/44;H01L21/205;H01L21/304;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/44 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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