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发明名称 Method of forming silicon oxide layer and method of manufacturing thin film transistor thereby
摘要
申请公布号 GB9925564(D0) 申请公布日期 1999.12.29
申请号 GB19990025564 申请日期 1999.10.28
申请人 LG. PHILIPS LCD CO LTD 发明人
分类号 H01L21/31;C23C16/40;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/316;H01L21/336;H01L29/786 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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