| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT EQUIPMENT AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1092797(A) |
申请公布日期 |
1998.04.10 |
| 申请号 |
JP19970179676 |
申请日期 |
1997.07.04 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
TAKAGI SHIGEYUKI;UCHIDA YUTAKA;TAJIMA NAOKI;TAKI KAORU;OKAMOTO NOBORU |
| 分类号 |
H05H1/46;C23F4/00;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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