发明名称 Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung
摘要 Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung mit: einer Vakuumkammer (1), die einen hohlen Körper (11) und eine erste Endwand (12) und eine zweite Endwand (13) hat, welche Endwände beide Enden des hohlen Körpers (11) schließen; einer Beschichtungswalze (3), die innerhalb der Vakuumkammer (1) aufgenommen ist und durch die erste Endwand (12) gelagert ist, wobei die Beschichtungswalze (3) zur Drehung von der Seite der ersten Endwand (12) angetrieben wird; einer Beschichtungsquelleneinheit (4), die innerhalb der Vakuumkammer (1) aufgenommen ist, um ein Schichtsubstrat, das um die Beschichtungswalze (3) gewickelt wird, zu beschichten; und einer Abwickelwalze (6) zum Zuführen des Schichtsubstrats zu der Beschichtungswalze (3) und einer Aufwickelwalze (7) zum Aufwickeln des Schichtsubstrats, nachdem es beschichtet worden ist, wobei die Aufwickelwalze (7) und die Abwickelwalze (6) innerhalb der Vakuumkammer (1) aufgenommen sind, wobei die Vakuumkammer (1) einen festen Kammerabschnitt (1F), der die Beschichtungswalze (3), die Abwickelwalze (6) und die Aufwickelwalze (7) hat, und einen beweglichen Kammerabschnitt (1M) hat, der die Beschichtungsquelleneinheit (4) hat, wobei der feste Kammerabschnitt (1F) und der bewegliche Kammerabschnitt (1M) durch Teilen der Vakuumkammer (1) entlang einer Teilungsebene, die durch einen Seitenendabschnitt der ersten Endwand (12) oder des Körpers (11) in der Vakuumkammer (1) verläuft und ferner durch obere und untere Enden der zweiten Endwand (13) verläuft, ausgebildet sind, und durch Bewegen des beweglichen Kammerabschnitts (1M), um den festen Kammerabschnitt (1F) zu öffnen und zu schließen, geteilte Enden des beweglichen Kammerabschnitts (1M) und des festen Kammerabschnitts (1F) durch ein Dichtelement gegeneinander in Angrenzung bringbar oder von der Angrenzung zueinander lösbar sind, dadurch gekennzeichnet, dass das Innere der Vakuumkammer (1) in eine Walzenkammer, in der die Abwickelwalze (6) und die Aufwickelwalze (7) angeordnet sind, und eine Beschichtungskammer (17), in der die Beschichtungsquelleneinheit (4) angeordnet ist, durch eine Trennwand (22, 23) getrennt ist, die mit einer inneren Fläche des ...
申请公布号 DE102005042762(B4) 申请公布日期 2016.10.20
申请号 DE20051042762 申请日期 2005.09.08
申请人 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho 发明人 Segawa, Toshiki
分类号 C23C14/56 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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