| 发明名称 | 磁盘用基板 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包括(a)使用含有平均粒径为0.05～0.5μm的氧化铝磨粒和氧化剂的研磨液(研磨液组合物A)研磨加工基板的工序，和(b)使用含有平均粒径为0.005～0.1μm的二氧化硅粒子的研磨液(研磨液组合物B)研磨加工基板的工序的磁盘用基板的制造方法、由上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板，以及具有长波长表面波纹为0.05nm以上0.3nm以下，且AFM表面粗糙度为0.03nm以上0.2nm以下的表面特性的磁盘用基板。该磁盘用基板适用于制造高记录密度的硬盘。特别地，可以产业化制造50G比特/平方英寸以上的高记录密度的硬盘。 | ||
| 申请公布号 | CN100469527C | 申请公布日期 | 2009.03.18 |
| 申请号 | CN200410056293.1 | 申请日期 | 2004.08.06 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 藤井滋夫;北山博昭 |
| 分类号 | B24B1/00(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I;G11B5/73(2006.01)I | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 张晓威 |
| 主权项 | 1、磁盘用基板的制造方法，其具有(a)使用含有平均粒径为0.05～0.5μm的氧化铝磨粒和氧化剂的研磨液组合物A研磨加工基板的工序；和(b)使用含有平均粒径为0.005～0.1μm的二氧化硅粒子的研磨液组合物B研磨加工基板的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||