首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING A STEP FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP0473150(A3) 申请公布日期 1992.06.03
申请号 EP19910114530 申请日期 1991.08.28
申请人 FUJITSU LIMITED;FUJITSU VLSI LIMITED 发明人 NAKASHIMA, KAZUSHI;KOBAYASHI, MASANORI;OGAWA, TSUTOMU
分类号 H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com