METHOD AND MEANS FOR COATING A SURFACE WITH A RESISTANT FACING BY CHEMICAL-VAPOR DEPOSITION.

摘要

Le procédé décrit consiste à revêtir un substrat d'une couche résistante en déposant sur ce dernier un matériau dur par un procédé chimique en phase gazeuse, en passant sur la surface du substrat un mélange gazeux d'un précurseur du matériau, un accélérateur, un oxydant et un gaz porteur, puis à retirer les produits dérivés et les matériaux qui n'ont pas réagi; on obtient des mélanges de matériau dur en utilisant un corps réactif dans le mélange gazeux. Le substrat est de préférence chauffé. La figure montre une vue schématique de l'appareil qui comprend le précurseur (102) et l'accélérateur (104), qui sont vaporisés et transférés dans un réacteur (120). Un mélange d'oxyde de chrome et de chlorure de stannate est le matériau de revêtement préféré, obtenu par la décomposition de chlorure de chromyle et de chlorure d'étain monobutylique sur la surface du substrat en présence de méthylisobutylcétone et d'air. D'autres mélanges métalliques peuvent également être obtenus.