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发明名称 A locos mask for suppression of narrow field oxide thinning and oxide punch through effect
摘要
申请公布号 SG76547(A1) 申请公布日期 2000.11.21
申请号 SG19980001564 申请日期 1998.06.30
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD. 发明人 PEIDOUS, IGOR, V.;ELGIN QUEK KIOK BOONE;LOIKO, KON, STANTIN, V.;SUAN TAN POH;CHAGAN, VIJAI, KUMAR, N.
分类号 H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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