| 发明名称 |
Removing agent composition for a photoresist and process for producing a semiconductor integrated circuit |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG76509(A1) |
申请公布日期 |
2000.11.21 |
| 申请号 |
SG19970001012 |
申请日期 |
1997.03.31 |
| 申请人 |
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. |
发明人 |
IWATA KEIICHI;KARITA TETSUYA;AOYAMA TETSUO |
| 分类号 |
G03F7/32;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/311;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F7/42;H01L21/321 |
主分类号 |
G03F7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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