| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft. ein Verfahren und eine Anlage zur Reinigung von schadstoffbelasteten Gasen. Zur Schaffung eines besonders einfachen Verfahrens mit hohem Wirkungsgrad, ist vorgesehen, daß das aus dem Gasstrom abgetrennte Additiv im wesentlichen durch die Schwerkraft in eine Einrichtung zur Zwischenlagerung transportiert wird, und daß das zwischengelagerte, in den Gasstrom rückzuführende Additiv in einem Mengenverhältnis des Additivs zum Gasvolumen von 50 bis 10000 g/m<3>, vorzugsweise von 500 bis 5000 g/m<3> in einen im wesentlichen vertikal nach oben strömenden Gasstrom beigemengt wird. Dieses Verfahren führt beispielsweise eine Anlage durch, bei der die Zwischenlagerung des Additivs direkt unterhalb des Filters (5) erfolgt, zwischen der Zuleitung (1) und dem Filter (5) eine im wesentlichen vertikale Reaktionsleitung (18), in der das Gas nach oben strömt, unmittelbar neben dem Filter (5) angeordnet ist, und bei der die Dosiereinrichtung (12) für das rückzuführende Additiv in der Reaktionsleitung (18) mündet. <IMAGE></p> |
