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发明名称 Fremgangsmåte og apparat for kjemisk dampdeponering av polysilisium
摘要
申请公布号 NO20016269(A) 申请公布日期 2002.01.03
申请号 NO20010006269 申请日期 2001.12.20
申请人 G T EQUIPMENT TECHNOLOGIES INC 发明人 CHANDRA, MOHAN;JAFRI, IJAZ;GUPTA, KEDAR;PRASAD, VISHWANATH;TALBOTT, JONATHAN
分类号 C01B33/02;C01B33/027;C23C16/24;C30B29/06;(IPC1-7):C23C16/24 主分类号 C01B33/02
代理机构 代理人
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