发明名称 |
偏光膜 |
摘要 |
本发明涉及偏光膜,其是将含有下述通式(1)所表示的双偶氮化合物和溶解所述双偶氮化合物的溶剂的液晶性涂布液流延为薄膜状并使其干燥而得到的、厚度为0.1μm~3μm的涂膜,<img file="DDA00002917608900011.GIF" wi="1254" he="350" />式(1)中,Q<sub>1</sub>表示任选具有取代基的芳基;Q<sub>2</sub>表示任选具有取代基的亚芳基;R表示氢原子、碳原子数为1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或苯基,其中这些基团也任选具有取代基;M表示抗衡离子。 |
申请公布号 |
CN103149622B |
申请公布日期 |
2016.06.22 |
申请号 |
CN201310081152.4 |
申请日期 |
2008.10.30 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
松田祥一;西口恭子;龟山忠幸 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;C09K19/60(2006.01)I;C09B31/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种偏光膜,其特征在于,其是将含有下述通式(1)所表示的双偶氮化合物和溶解所述双偶氮化合物的溶剂的液晶性涂布液流延为薄膜状并使其干燥而得到的、厚度为0.1μm~3μm的涂膜,所述偏光膜的雾度值为10%以下,<img file="FDA0000902177210000011.GIF" wi="1254" he="359" />式(1)中,Q<sub>1</sub>表示任选具有取代基的芳基;Q<sub>2</sub>表示任选具有取代基的亚芳基;R表示氢原子、碳原子数为1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基或苯基,其中这些基团也任选具有取代基;M表示抗衡离子。 |
地址 |
日本大阪府 |