| 主权项 |
1.一种可覆写光学记录载体,含承载第一记录叠之 基板,第一记录叠依下列顺序或逆序包含: -一第一介质层; -一含相位改变记录材料之记录层; -一第二介质层;以及 -一镜象层,由含铝为主成分之混合物或含银为主 成分之混合物所构成; 其特征在于该第一介质层之厚度(d1)范围系100奈米 至200奈米,且该第二介质层厚度(d2)则依据以下关 系: a)当该镜象层含铝时,则 0.0225*d22-2.6572*d2+173.3(nm)<d1<0.0225*d22-2.6572*d2+213.3(nm) b)当该镜象层含银时,则 0.0191*d22-2.0482*d2+149.6(nm)<d1<0.0191*d22-2.0482*d2+189.6(nm) 。 2.如申请专利范围第1项之可覆写光学记录载体,其 中该第二介质层之厚度范围系20至50奈米。 3.如申请专利范围第2项之可覆写光学记录载体,其 中该第一介质层之厚度范围系110奈米至150奈米,而 该第二介质层厚度范围系25奈米至40奈米。 4.如申请专利范围第3项之可覆写光学记录载体,其 中该第一及第二介质层含硫化锌及二氧化矽混合 物。 5.如申请专利范围第4项之可覆写光学记录载体,其 中该相位改变记录材料含锗、铟、锑及碲之混合 物,且该记录层之厚度范围系121.5奈米。 6.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之可覆写光学 记录载体,尚包含: -附于该第一介质层之隔离层;及 -配置于该隔离层上之第二记录叠。 7.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之可覆写光学 记录载体,尚含一配置于第一介质层上之假基板。 图式简单说明: 图1显示一普通可覆写光学记录载体之切面图; 图2例示本发明较佳具体实例可覆写光学记录载体 之切面图; 图3显示本发明记录层中(I1)层厚度与(I2)层厚度之 配合,该叠含导致最大Rc-Ra之铝镜象层; 图4显示本发明记录层中(I1)层厚度与(I2)层厚度之 配合,该叠含导致最大Rc-Ra之银镜象层; 图5显示反射信号(Rc,Ra)、(Rc-Ra之差及反射)之读取 光束之光对比为(I2)厚度的函数; 图6显示反射信号(Rc,Ra)、(Rc-Ra之差及反射)之读取 光束之光对比为(I1)厚度的函数; 图7显示依据写入功率含单记录叠之本发明可覆写 光学记录载体之跳动及调变; 图8显示依据写入功率含两记录叠之本发明可覆写 光学记录载体之跳动及调变。 |
