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发明名称 Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch auf Basis von säurespaltbaren und photochemisch säurebildenden Verbindungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern.
摘要
申请公布号 DE58906723(D1) 申请公布日期 1994.03.03
申请号 DE19895006723 申请日期 1989.04.05
申请人 BASF AG, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE 发明人 SCHWALM, REINHOLD, DR., D-6706 WACHENHEIM, DE;BINDER, HORST, D-6840 LAMPERTHEIM, DE;SCHUHMACHER, RUDOLF, DR., D-6737 BOEHL-IGGELHEIM, DE
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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