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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum lithographischen Erzeugen von Nano- und/oder Mikrostrukturen (9) auf einem Substrat (1) mit einer dreidimensionalen Makro-Oberfläche. Das Verfahren ist gekennzeichnet durch: Aufbringen einer zu strukturierenden Substanz (4) auf das Substrat (1) und Positionieren des Substrates (1) relativ zu einem Stempel (5) mit einer zumindest abschnittsweise zur Makro-Oberfläche (2) des Substrates (1) formkongruenten dreidimensionalen Makro-Oberfläche (6), die mit einer Negativ-Nano- und/oder Mikrostruktur (8) versehen ist, und Prägen der Negativ-Nano- und/oder Mikrostruktur (8) des Stempels in die Substanz (4) und dadurch Erzeugen der Nano- und/oder Mikrostruktur (9) in der Substanz (4). Ferner betrifft die Erfindung einen Stempel (5) sowie ein Substrat (1).
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