发明名称 基板尺度的掩模对准
摘要 描述了用于对准基板尺度的掩模的方法和系统。所呈现的对准方法可以改善受基板尺度的掩模与基板的相对侧向位置影响的工艺的均匀性和可重复性。所述方法涉及测量所述基板在围绕所述基板尺度的掩模的外围的多个位置处的“悬伸”。基于所述测量,通过调节所述基板和/或掩模位置来修改所述基板相对于所述基板尺度的掩模的相对位置。在实施例中,对所述相对位置的所述调节在一次调节中进行。硬件和方法的特征涉及在基板处理系统被完全组装并可能在真空下时进行测量和调节的能力。
申请公布号 CN105810623A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201610027061.6 申请日期 2016.01.15
申请人 应用材料公司 发明人 A·拉维德;T·伊甘;P·康纳斯;S·斯塔里克;G·巴拉苏布拉马尼恩;S·巴苏
分类号 H01L21/68(2006.01)I 主分类号 H01L21/68(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 黄嵩泉
主权项 一种蚀刻基板的方法,所述方法包括以下步骤:将所述基板放置在基板处理腔室的基板处理区域中;将所述基板处理区域排空至小于80托的压力;朝所述基板移动基板尺度的掩模;其中,所述基板尺度的掩模与所述基板是平行的,并且其中,所述基板尺度的掩模在两个或更多个侧向尺寸上小于所述基板;对所述基板在围绕所述基板尺度的掩模的外围的第一位置处超出所述基板尺度的掩模的边缘的第一悬伸进行第一测量;对所述基板在围绕所述外围的第二位置处超出所述基板尺度的掩模的边缘的第二悬伸进行第二测量;以及侧向地移动所述基板,使得所述基板尺度的掩模与所述基板侧向地对准,其中,根据对所述第一悬伸的所述第一测量以及对所述第二悬伸的所述第二测量来计算运动量。
地址 美国加利福尼亚州