CLEANING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

摘要

On empêche l'adhésion d'impuretés métalliques à la surface d'un substrat semi-conducteur lors du nettoyage du substrat à l'aide d'une solution aqueuse basique de peroxyde d'hydrogène. Le liquide nettoyant contient un agent de chélation comportant au moins deux groupes d'acide phosphonique. Même en cas de contamination du liquide nettoyant par les impuretés métalliques, les caractéristiques du dispositif à semi-conducteur composé du substrat demeurent stables, dès lors que les impuretés ne peuvent pas adhérer à la surface du substrat.