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发明名称 Process for the pretreatment of the reaction chamber and/or the substrate for the selective deposition of tungsten
摘要
申请公布号 EP0586301(B1) 申请公布日期 1997.03.19
申请号 EP19930402132 申请日期 1993.09.01
申请人 FRANCE TELECOM 发明人 RIVOIRE, MAURICE
分类号 C23C16/02;C23C16/04;C23C16/14;C23C16/44;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/02 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人
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