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发明名称
阶梯式漂移金属氧化物半导体场效电晶体的装置及方法
摘要
本发明系关于一种功率金属氧化物半导体场效电晶体(MOSFET)(100),其并有一阶梯式漂移区域,该阶梯式漂移区域包括一与闸极(114)部分重叠且向汲极区域(122)延伸一部分距离的浅沟槽绝缘体(STI)(112)。一矽化物块自STI(112)延伸且与STI(112)及汲极区域(122)部分重叠。STI(112)具有一为漂移区域之约50%至75%的宽度。
申请公布号
TW200805656
申请公布日期
2008.01.16
申请号
TW096104370
申请日期
2007.02.07
申请人
飞思卡尔半导体公司
发明人
朱隆华;艾米塔娃 波斯;维许努K 凯姆加;陶德C 罗根波尔
分类号
H01L29/78(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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