| 摘要 |
fonte de arco de evaporação com velocidade rápida de formação de película, dispositivo de formação de película e método da fabricação de película de revestimento usando a fonte de arco de evaporação. é revelad uma fonte de arco de evaporação tendo um rápido formado de filme. a fonte de arco de evaporação revelada (1) é fornecida com: pelo menos um imã de circunferência (3) tal que circunda a circunferência do alvo (2), e que colococada de modo que a direção da magnetização do imã corra ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2); um primeiro imã permanente de forma nao circular (4a) que é colocado na superfície traseira do alvo (2), tem polaridade na mesma direção conforme a polaridade do imã de circunferência (3), e é colocado de modo que a direção de magnetização do mesmo percorra ao longo da direção ortogonal para a superfície do alvo (2); o segundo imã permanente de formato não circular (4b)que é colocado ou na superfície traseira do primeiro imã permanente (4a) ou entre o primeiro imã permanente (4a) e o alvo (2), de modo a deixar um espaço entre o primeiro imã permanente (4a), e que te a polaridade na mesma direção que a polaridade do imã de circunferência (3), e está disposto de modo que a direção de magnetização do mesmo corre ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2), e um corpo magnético (5), que está disposta entre o primeiro imã permanente (4a) e o segundo imã permanente (4b). |
