发明名称 |
强电介体薄膜及其制造方法、强电介体存储器、压电元件 |
摘要 |
本发明的强电介体薄膜,通过在强电介体钙钛矿材料的A位置离子中至少含有1%以上的4配位Si<SUP>4+</SUP>或Ge<SUP>4+</SUP>的强电介体Pb(Zr,Ti)O<SUB>3</SUB>的B位置上,包含合计为5摩尔%以上、40摩尔%以下的Nb、V、W中的至少一种元素,从而可以显著提高其可靠性。 |
申请公布号 |
CN1538523A |
申请公布日期 |
2004.10.20 |
申请号 |
CN200410031478.7 |
申请日期 |
2004.03.29 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
木岛健;宫泽弘;滨田泰彰;名取荣治 |
分类号 |
H01L27/10;H01L21/31;H01L41/08 |
主分类号 |
H01L27/10 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种强电介体薄膜,其特征在于:由表示为ABO3或者(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-(式中,A是选自Li+、Na+、K+、Pb2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Bi3+、La3+中的一种或两种以上的离子;B是选自Fe3+、Ti4+、Zr4+、Nb5+、Ta5+、W6+、Mo6+中的一种或两种以上的离子;m为自然数)的钙钛矿结构的强电介体或者铋层状结构的强电介体组成,且A位置离子至少含有4配位的Si4+或Ge4+。 |
地址 |
日本东京 |