发明名称 强电介体薄膜及其制造方法、强电介体存储器、压电元件
摘要 本发明的强电介体薄膜,通过在强电介体钙钛矿材料的A位置离子中至少含有1%以上的4配位Si<SUP>4+</SUP>或Ge<SUP>4+</SUP>的强电介体Pb(Zr,Ti)O<SUB>3</SUB>的B位置上,包含合计为5摩尔%以上、40摩尔%以下的Nb、V、W中的至少一种元素,从而可以显著提高其可靠性。
申请公布号 CN1538523A 申请公布日期 2004.10.20
申请号 CN200410031478.7 申请日期 2004.03.29
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 木岛健;宫泽弘;滨田泰彰;名取荣治
分类号 H01L27/10;H01L21/31;H01L41/08 主分类号 H01L27/10
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种强电介体薄膜,其特征在于:由表示为ABO3或者(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-(式中,A是选自Li+、Na+、K+、Pb2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Bi3+、La3+中的一种或两种以上的离子;B是选自Fe3+、Ti4+、Zr4+、Nb5+、Ta5+、W6+、Mo6+中的一种或两种以上的离子;m为自然数)的钙钛矿结构的强电介体或者铋层状结构的强电介体组成,且A位置离子至少含有4配位的Si4+或Ge4+。
地址 日本东京