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经营范围
发明名称
METHOD FOR MANUFACTURING ISOLATION LAYER IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100505419(B1)
申请公布日期
2005.08.04
申请号
KR20030025775
申请日期
2003.04.23
申请人
发明人
分类号
H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/762
主分类号
H01L21/762
代理机构
代理人
主权项
地址
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