| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zum Ätzen von in einer Ätzlösung aufgenommenen Substraten |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen von in einer Ätzlösung (2) aufgenommenen Substraten (4) mit folgenden Schritten: DOLLAR A Bereitstellen eines die Ätzlösung (2) aufnehmenden Beckens (1), DOLLAR A vollständiges Eintauchen der Substrate (4) in die Ätzlösung (2), DOLLAR A Erzeugen einer die Substrate (4) umspülenden Strömung in der Ätzlösung (2).
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| 申请公布号 |
DE102005015758(A1) |
申请公布日期 |
2006.06.14 |
| 申请号 |
DE200510015758 |
申请日期 |
2005.04.06 |
| 申请人 |
ASTEC HALBLEITERTECHNOLOGIE GMBH |
发明人 |
SCHWECKENDIEK, JUERGEN;FRANZKE, JOERG;NIESE, MATTHIAS;OSTERKAMP, JUERGEN |
| 分类号 |
C23F1/00;C23F1/08 |
主分类号 |
C23F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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