蚀刻方法

摘要

本发明系一种蚀刻方法，其蚀刻形成于基板表面之电极膜上层所形成之铁电膜或高介电质膜，同时保留该电极膜；该方法之特征在于使；该方法之特征在于使用全氟碳化物气体作为蚀刻气体。