| 发明名称 | 一种含磷插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法与应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种含磷插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法和应用，含磷插层结构选择性红外吸收材料，简写为P－LDHs，其分子式为Mg<SUP>2+</SUP><SUB>1－x</SUB>Al<SUP>3+</SUP><SUB>x</SUB>(OH)<SUB>2</SUB>(P<SUP>m－</SUP>)<SUB>a</SUB>(CO<SUB>3</SUB><SUP>2－</SUP>)<SUB>b</SUB>·kH<SUB>2</SUB>O。含磷插层结构选择性红外吸收材料的制备方法是，以层间阴离子为碳酸根的镁铝水滑石MgAl－CO<SUB>3</SUB>－LDHs为前体，采用离子交换法将含磷化合物离子插入到水滑石层间，组装得到晶相结构良好的P－LDHs。P－LDHs具有很好的红外线吸收性能。当应用聚合物薄膜中，P－LDHs比MgAl－CO<SUB>3</SUB>－LDHs单独使用的红外吸收效果好；当将MgAl－CO<SUB>3</SUB>－LDHs与P－LDHs按3－0.3∶1的比例混合后再加入PE时比单一添加P－LDHs时的红外吸收效果更好。 | ||
| 申请公布号 | CN101376722A | 申请公布日期 | 2009.03.04 |
| 申请号 | CN200810223961.3 | 申请日期 | 2008.10.10 |
| 申请人 | 北京化工大学 | 发明人 | 李殿卿;徐向宇;王丽静;林彦军 |
| 分类号 | C08K9/02(2006.01);C08L23/06(2006.01);C08K3/26(2006.01) | 主分类号 | C08K9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何俊玲 |
| 主权项 | 1.一种含磷插层结构选择性红外吸收材料，其分子式为：Mg2+ 1-x Al3+ x(OH)2(Pm-)a(CO3 2-)b·kH2O其中Pm-代表层间荷电量为m的含磷阴离子，是H2PO4 -、HPO4 2-或PO4 3-中的任意一种；a、b分别为Pm-和CO3 2-的数量，b有时为0，m×a+2×b＝X，0.1<X<0.8；k为结晶水数量，0.01<k<4；含磷插层结构选择性红外吸收材料为超分子结构，晶体结构为类水滑石材料的晶体结构。 | ||
| 地址 | 100029北京市朝阳区北三环东路15号 | ||