发明名称 |
用于一微影设备的吸收剂及清洁配置以及清洁一表面之方法 |
摘要 |
一种微影设备,其包括一辐射源及一具有一经组态以保持金属污染物之第一表面之物体。该表面具有吸收剂功能。该第一表面大致布置于在微影处理期间由该辐射源产生之辐射光束所横越之区域外部。该第一表面可进一步用于保持在一清洁方法中所产生之挥发性污染物。 |
申请公布号 |
TW200811607 |
申请公布日期 |
2008.03.01 |
申请号 |
TW096124787 |
申请日期 |
2007.07.06 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
马坦 马纳斯 乔哈奈 怀慕斯 凡 贺潘;MARINUS JOHANNES WILHELMUS;法丁 伊弗根威区 班奈;乔哈奈 贺伯特 约瑟非那 摩尔斯;JOSEPHINA;华特 安松 索尔 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
荷兰 |