| 摘要 |
在一薄光束方向性结晶系统配置以对一玻璃基板上的矽层进行退火，其利用一特别的雷射光束分布曲线，在分布曲线的一边缘具有高峰值。此系统的组态系将一矽层的一空间控制部分完全熔化，产生横向长晶。藉由将基板或雷射以一特定步进尺寸移动，并使矽层接受连续的雷射「照射」，而将整个矽层结晶化。横向长晶会在熔化区域的中心生成一突出。此突出必须被再次熔化。因此，步进尺寸必须使得在连续冲击之间有足够的重叠区域，亦即熔化区域，以确保此突出会被熔化。此现象将需要使的步进尺寸小于光束宽度的一半。较小的步进尺寸会减少产能并增加成本。本发明系统与方法的特殊雷射分布曲线，可以增加步进尺寸，因此可以增加产能且减少成本。 |
