用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法

摘要

本发明公开了一种用于测量光刻机像场弯曲分布的装置，包括一投影透镜；一掩膜板，其上具有按一定空间分布的狭缝阵列；一基板，安装有光探测器阵列；所述光探测器阵列的上部覆盖有一层不透明的覆盖层，并在该覆盖层对应于光探测器阵列中每一个光探测器的光敏感区域的位置上各制作一狭缝；所述圆形基板上还包括有一数据采集和处理器及一传送系统。本发明还公开了一种使用上述装置对光刻机像场弯曲进行测量的方法，通过让硅片平台在垂直方向上进行步进，并将光探测器阵列所测得的一系列光强变化的数据，通过数据采集和存储系统进行分析处理，从而求得像场的弯曲分布。使得对光刻机像场弯曲分布的测量更为简便，而且提高了测量效率。

主权项

1.一种用于测量光刻机像场弯曲分布的装置，包括：一投影透镜，其特征是，还包括：一掩膜板，其上具有由多个狭缝按一定空间分布排列而成的狭缝阵列；一基板，在所述基板属于光刻机曝光区域的范围内安装有光探测器阵列；所述光探测器阵列的上部覆盖有一层不透明的覆盖层，并在该覆盖层对应于光探测器阵列中每一个光探测器的光敏感区域的位置上各制作一狭缝；上述狭缝所形成狭缝阵列的空间分布应与所述掩膜板上狭缝阵列的空间分布完全相同；所述基板上还包括有一数据采集和处理器及一传送系统；其中，所述掩膜板上的狭缝阵列通过所述投影透镜投影到所述基板的光探测器阵列上。