可显影之抗反射涂层的双重图形化方法

摘要

本发明系关于一种在基板上双重图形化薄膜之方法。此一方法包括在该基板上形成该薄膜以被图形化，形成一可显影的抗反射涂层(ARC, anti-reflective coating)于该薄膜上及形成一光阻层于该 ARC 层上。在此之后，依照第一影像图形将该光阻层及该 ARC 层影像化并加以显影，因此在该第一影像图形中形成该 ARC 层。该光阻被移除及另一光阻层形成于该 ARC 层上。在此之后，另一光阻层及该 ARC 层依照一第二影像图形被影像化及被显影，因此在该 ARC 层中形成该第二影像图形。移除另一光阻层而留下双重图形化之 ARC 层，以蚀刻下方薄膜。